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今天我们一起梳理一下至纯科技，公司的主营业务主要包括高纯工艺系统的研发、生产和销售；半导体湿法清洗设备研发、生产和销售;光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售。

泛半导体工艺伴随许多种特殊制程，会使用到大量超高纯（ppt级别）的干湿化学品，这是完成工艺成果的重要介质，其特点是昂贵并伴随排放。在集成电路领域，高纯工艺系统主要包括高纯特气系统、大宗气体系统、高纯化学品系统、研磨液供应及回收系统、前驱体工艺介质系统等。其中，各类高纯气体系统主要服务于几大干法工艺设备，各类高纯化学品主要服务于湿法工艺设备。公司在用户价值上聚焦六个词：“高纯、工艺、节能、环保、自动化、智能化”。公司在湿法工艺往深度走的同时，在减排和工艺数字化领域也投入研发，有具体的产品和服务的部署，该领域的投入兼具经济效益和社会效益。

在应用领域上，高纯工艺系统的使用范围越来越广。不纯物控制技术最初应用在半导体行业。随着半导体制程工艺的广泛应用，现代制造业形成了一个泛半导体产业，即皆以半导体制程为产品的制造流程，其中的制程包括如掺杂、光刻、刻蚀、CVD成膜等均需使用相当多的高纯度气体和高纯度化学品，从而产生对高纯工艺系统的大量需求。

目前少数本土供应商的产品和服务已经顺利进入全球一线客户，竞争地位不断增强，正逐步实现进口替代，包括系统的替代、设备的替代、乃至元器件层的替代。行业内技术领先且具有承接大项目实力与经验的本土企业较少，行业内呈现出高等级高纯工艺市场集中度较高、低等级市场较为分散的竞争格局，本土主流供应商的竞争地位将不断增强。

国内与至纯科技经营模式完全相同或基本覆盖本公司业务范围的公司较少。目前能获得公开财务数据的国内公司中，只有朗脉股份（已被常铝股份合并）、正帆科技与公司的业务最为相近，而朗脉股份的洁净系统业务仅针对医药行业。国际供应商包括台湾上市公司帆宣科技、汉唐集成。

公司通过多年的经验积累和技术开发，产品和服务不断完善，在行业中形成了良好的口碑和信誉，积累了一批高端客户和合作伙伴，且基本为各自行业的领军企业或主要企业。半导体领域客户有上海华力、中芯国际、长江存储、合肥长鑫、士兰微、西安三星、无锡海力士等众多行业一线客户；光伏行业客户有英利、协鑫集成、通威股份等；在医药领域领域获得了百特、君实生物、迈瑞、宝洁、康弘、金霸王等国际和国内头部制药及个人护理领域用户的订单。

高纯工艺系统具有客户粘度较高的特点，年公司所有核心客户均给予了重复订单，包括中芯，华力，海力士，长鑫，士兰微，惠科等，整体订单数量创历史新高，逐步巩固龙头地位。

公司年开始启动半导体湿法工艺设备研发，年起业务重心逐渐偏向半导体行业。

清洗为半导体制程重要环节，是影响器件成品率及可靠性最重要的因素之一。为减少杂质对芯片良率的影响，实际生产中不仅需要提高单次清洗效率，还需要在几乎所有制程前后都进行频繁的清洗，清洗步骤约占整体步骤的1/3。例如，在单晶硅片制造阶段，需要清洗抛光后的硅片，保证其表明平整度和性能；在过程工艺阶段，需要在刻蚀、化学沉积、去胶等关键工艺前后进行清洗，去除工艺过程中硅片沾染的化学杂质，减小缺陷率；在封装阶段，需根据封装工艺进行TSV清洗、UBM/RDL清洗等。

按照清洗原理来分，清洗设备可分为干法清洗设备和湿法清洗设备。湿法工艺是指使用腐蚀性或氧化性较强的溶剂进行喷雾或擦洗，使硅表明的杂质与溶剂发生化学反应，生成可溶性物质或气体，从而将晶圆表明的颗粒或其他金属离子清洗掉。干法工艺指不使用化学试剂的清洗技术，包含等离子清洗、气相清洗等。在实际生产过程中一般将两种方法结合使用，目前90%以上的清洗步骤以湿法设备为主，少部分特定站点使用干法清洗来提高清洗效率。至纯科技主要生产湿法清洗设备。

按照同时清洗晶圆的数量来分，清洗设备可分为槽式清洗和单片式清洗。槽式清洗是将多片晶圆（一般为-片）放入清洗槽中，集中清洗，此类清洗机效率高，成本低缺点是浓度较难控制，可能产生交叉污染等。单片式清洗是将每一片晶圆送至各个腔体进行单独喷淋式清洗，这样容易控制清洗质量，也可提高单片晶圆不同位置的清洗均匀度，但清洗效率较低。

清洗设备在半导体设备市场中价值量占比约5-6%，相较光刻、刻蚀等核心设备价值量较低，同时技术门槛较低，比较容易首先实现全面国产化。

根据SEMI数据，年全球半导体清洗设备市场规模为26亿美元，预计年将达37亿美元，复合增长率为7%。预计中国大陆地区每年的湿法清洗设备的空间在15-20亿美元，到年清洗机的国产化率可达40%-50%，即国产设备的市场空间在40-70亿元；且预计未来12寸晶圆的槽式和单片式清洗设备将是市场的主要增量。其中单片式清洗机领域公司有望成为少数几家具备核心技术的国产设备商。

全球半导体清洗设备行业国外厂商垄断。目前全球半导体清洗设备龙头主要为DNS(日本迪恩士)、TEL(日本东京电子)、LamResearch(美国拉姆研究)和SEMES(韩国)等日美韩企业，根据Gartner数据显示，年全球清洗设备CR4约为98%，市场高度集中，其中迪恩士以市占率45.1%处于领先地位。清洗设备主要国产供应商有：盛美股份、北方华创、芯源微、至纯科技等。

年公司单片湿法设备和槽式湿法设备全年出机超过了30台。同时单片式湿法设备新增订单金额超过3.6亿元，增长显著。目前，半导体清洗机的国产化率不到10%，伴随着国产化率的提升，以及启东项目逐步释放产能，公司半导体业务有望进一步成长。

年公司完成收购波汇科技，进军光传感器市场。

波汇科技主要业务为光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售。公司作为行业内少数具有垂直集成制造能力的厂商之一，拥有从基础光学元器件（光学滤光片、激光管帽等）、传感设备和系统到数据分析和应用集成软件平台的研发和规模化生产能力。公司光传感领域客户有国家电网、南方电网、中国石油、华为、霍尼韦尔等；光通信领域，公司与石家庄麦特达电子科技有限公司、瑞谷光网、储翰科技等知名企业建立了良好的合作关系。

收购波汇科技，有利于发挥业务协同效应，同时不会与目前收入利润的主要来源集成电路和分立器件领域的客户竞争，有利于公司进一步提高持续盈利能力，有效提升上市公司的产品竞争力和市场空间。

一、国内高纯工艺龙头，清洗设备迈入新的发展阶段

至纯科技成立于0年；0-5年公司业务以工程分包为主；5-8年确立以高纯工艺系统整体解决方案供应商为主营业；8-年公司业务以光伏产业发展为驱动，跻身业内最优秀的供应商之列；-年公司业务稳定：以医疗产业发展为驱动力；-年公司发展驱动力以半导体为主；年公司上市并进军半导体装备行业；年公司的清洗设备通过客户质量认证，并批量出货；年收购波汇科技进军光电子领域。

二、业务分析

-年，营业收入由2.08亿元增长至13.97亿元，复合增长率46.36%，20年同比增长41.63%，Q1实现营收同比增长.13%至2.31亿元；归母净利润由0.18亿元增长至2.61亿元，复合增长率70.72%，20年同比增长.36%，Q1实现归母净利润0.75亿元；扣非归母净利润由0.16亿元增长至1.11亿元，复合增长率47.31%，20年同比增长22.20%，Q1实现扣非归母净利润0.03亿元；经营活动现金流分别为0.02亿元、-0.18亿元、-0.68亿元、-0.53亿元、-1.11亿元、-2.81亿元，Q1实现经营活动现金流-0.74亿元。

分产品来看，年高纯工艺系统集成实现营收同比增长35.53%至8.63亿元，占比61.85%，毛利率增加5.32pp至31.76%；半导体设备实现营收同比增长.77%至2.18亿元，占比15.61%，毛利率减少2.23pp至29.85%；光传感器及光器件实现营收同比增长18.95%至3.15亿元，占比22.55%，毛利率增加1.74pp至55.33%。

年公司前五大客户实现营收3.61亿元，占比25.85%。

三、核心指标

-年，毛利率由39.73%下降至18年低点28.19%，随后逐年提高至36.79%；期间费用率由23.66%下降至18年低点13.47%，随后逐年上涨至19.21%，其中销售费用率由4.04%下降至17年低点2.00%，随后逐年上涨至3.90%，管理费用率由15.14%下降至18年低点7.58%，随后逐年上涨至9.85%，财务费用率16年下降至低点1.62%，而后上涨至5.46%；利润率16年提高至17.21%，随后逐年下降至18年低点4.67%，而后逐年提高至18.66%，加权ROE16年提高至16.76%，随后逐年下降至18年低点7.71%，而后逐年提高至16.03%。

四、杜邦分析

净资产收益率=利润率*资产周转率*权益乘数

由图和数据可知，净资产收益率主要随着利润率而变动。

五、研发支出

年公司研发投入1.50亿元，占比10.76%，资本化.66万元，资本率36.47%；截止年末公司研发人员人，占比17.96%。

六、估值指标

PE-TTM25.42，位于近3年低位。

根据机构一致性预测，至纯科技年业绩增速在16.27%左右，EPS为1.46元，18-23年5年复合增长率70.20%。目前股价28.00元，对应年估值是PE19.22倍左右，PEG1.18左右。

看点：

公司单片湿法设备获得国内重要用户的多个订单，进一步填补国产装备在湿法清洗领域的空白；伴随自主研发的多个型号单片式清洗设备获得商用推进，公司的投资价值和潜力进一步凸显。