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近日，至纯科技迎来了浙商证券、海富通基金、申万宏源、光大证券等25家投资机构调研。至纯科技表示，公司湿法槽式清洗设备已获得6台的量产订单，客户是中芯国际和万国半导体，这次的六台设备都是槽式设备，主要是适用于半导体厂商8寸线。9月下旬可交付2台，乐观估计今年四季度或明年一季度确认收入。

从清洗设备的配备量来看,目前以4万片产能的产线为例，一般情况下,8寸线匹配50台设备,12寸线国内匹配70台设备左右,包括槽式和单片,国外有的厂商能够达到台清洗设备水平。在一个Fab厂清洗机需要2个亿美金。

随着下游对良率要求高,会大量采用单片式,但是单片式清洗效率低,单片式清洗设备根据腔体数量不同,清洗效率也不同,一个腔体一次只能清洗一片。未来随着良率越来越高,单片式需求会越来越大。我们公司通常根据客户具体要求来提供清洗机。

目前市面上最便宜的单片清洗设备是两个腔体的50-60万美金,而6-8个腔体的单片式清洗设备的价值大概-万美金。槽式价格-万美金市场价格。

国外单片式清洗设备已经发展到12个、16个腔体了,腔体多对应的附属设备的介质供应也多,需要满足智能化、软件控制、压力均等和清洗后的存放等需求。设备选择还是更看重良率和技术更新。

湿法清洗设备种类很多,从种类和功能上国产设备目前实现的只有其中的10%,公司产线达产以后希望做30%以上的品类,未来我们希望湿法清洗机台的国产化率可以达到85%,进口替代能够大大增加国内厂商的竞争实力,避免国外厂商的价格垄断。

清洗设备在晶圆制造过程中反复使用,每道工艺都要清洗,是必备工艺,也会有具体的细分,14nm是我们目前正在做的。公司的设计、制造实力是可以覆盖较多种类,但是未来也是步步为营,不可能一蹴而就。我们非常看重客户需求,未来会跟动客户需求逐步扩张我们的产品线。

据悉，至纯科技湿法事业部于去年底成立,目前有人员近40人,槽式清洗设备目前是在日本制造,将来会放在启东,新厂乐观估计十月份部分交付使用,明年下半年产能有望开始释放,但达产仍需过程,最主要的制约因素是高端人才的培训需要比较长的周期。公司在去年年报提出的目标是未来五年内实现清洗设备累积销售台。目前第一期设计产能是年产48台。未来湿法事业部的团队规模有望达到-人。

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